纳米晶硅薄膜中氢含量及键合模式的红外分析
物理学报
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物理学报  2009, Vol. 58 Issue (4): 2565-2571
凝聚物质:结构、热学和力学性质 当期目录| 下期目录| 过刊浏览| 高级检索     
纳米晶硅薄膜中氢含量及键合模式的红外分析
陈城钊1, 李平1, 林璇英1, 刘翠青1, 邱胜桦1, 吴燕丹1, 余楚迎2
(1)韩山师范学院物理与电子工程系,潮州 521041;汕头大学物理系,汕头 515063; (2)汕头大学物理系,汕头 515063
Infrared analysis on hydrogen content and Si—H bonding configuration of hydrogenated nanocrystalline silicon thin films
Chen Cheng-Zhao1, Li Ping1, Lin Xuan-Ying1, Liu Cui-Qing1, Qiu Sheng-Hua1, Wu Yan-Dan1, Yu Chu-Ying2
(1)韩山师范学院物理与电子工程系,潮州 521041;汕头大学物理系,汕头 515063; (2)汕头大学物理系,汕头 515063

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