电感耦合等离子体CVD低温生长硅薄膜过程中的铝诱导晶化
物理学报
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物理学报  2005, Vol. 54 Issue (1): 269-273
凝聚物质:结构、热学和力学性质 当期目录| 下期目录| 过刊浏览| 高级检索     
电感耦合等离子体CVD低温生长硅薄膜过程中的铝诱导晶化
王晓强, 栗军帅, 陈 强, 祁 菁, 尹 旻, 贺德衍
兰州大学物理系,兰州 730000
Aluminum-induced crystallization during deposition of silicon films by inductively coupled plasma CVD
Wang Xiao-Qiang, Li Jun-Shuai, Chen Qiang, Qi Jing, Yin Min, He De-Yan
兰州大学物理系,兰州 730000

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