同步辐射光激励的二氧化硅薄膜刻蚀研究
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物理学报  2006, Vol. 55 Issue (11): 6163-6167
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同步辐射光激励的二氧化硅薄膜刻蚀研究
Urisu Tsuneo1, 王长顺2, 潘 煦2
(1)Institute for Molecular Science,Okazaki,444-8585,Japan; (2)上海交通大学物理系,上海 200240
Synchrotron radiation stimulated etching of SiO2 thin films
Urisu Tsuneo1, Wang Chang-Shun2, Pan Xu2
(1)Institute for Molecular Science,Okazaki,444-8585,Japan; (2)上海交通大学物理系,上海 200240

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