相变域硅薄膜材料的光稳定性
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物理学报  2006, Vol. 55 Issue (2): 947-951
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相变域硅薄膜材料的光稳定性
王 岩1, 任慧志1, 侯国付1, 郭群超1, 朱 锋1, 张德坤1, 孙 建1, 薛俊明1, 赵 颖1, 耿新华1, 韩晓艳2
(1)南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,光电信息技术科学教育部重点实验室,光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津 300071; (2)南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,光电信息技术科学教育部重点实验室,光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津 300071;河北工业大学材料科学与工程学院,天津 300130
Stability of mixed phase silicon thin film material under light soaking
Wang Yan1, Ren Hui-Zhi1, Hou Guo-Fu1, Guo Qun-Chao1, Zhu Feng1, Zhang De-Kun1, Sun Jian1, Xue Jun-Ming1, Zhao Ying1, Geng Xin-Hua1, Han Xiao-Yan2
(1)南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,光电信息技术科学教育部重点实验室,光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津 300071; (2)南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,光电信息技术科学教育部重点实验室,光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津 300071;河北工业大学材料科学与工程学院,天津 300130

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