Si基Bi<sub>3.25</sub>La<sub>0.75</sub>Ti<sub>3</sub>O<sub>12</sub>铁电薄膜的制备与特性研究
物理学报
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物理学报  2006, Vol. 55 Issue (6): 3152-3156
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Si基Bi3.25La0.75Ti3O12铁电薄膜的制备与特性研究
王 华, 任鸣放
桂林电子科技大学信息材料科学与工程系,桂林 541004
Synthesis and characteristics of Bi3.25La0.75Ti3O12 ferroelectric thin films by sol-gel technology
Wang Hua, Ren Ming-Fang
桂林电子科技大学信息材料科学与工程系,桂林 541004

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