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高k栅介质对肖特基源漏超薄体SOI MOSFET性能的影响

栾苏珍 刘红侠 贾仁需 蔡乃琼 王 瑾

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高k栅介质对肖特基源漏超薄体SOI MOSFET性能的影响

栾苏珍, 刘红侠, 贾仁需, 蔡乃琼, 王 瑾

The impact of high-k dielectrics on the performance of Schottky barrier source/drain (SBSD) ultra-thin body (UTB) SOI MOSFET

Luan Su-Zhen, Liu Hong-Xia, Jia Ren-Xu, Cai Nai-Qiong, Wang Jin
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出版历程
  • 收稿日期:  2007-11-20
  • 修回日期:  2007-12-03
  • 刊出日期:  2008-07-20

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