微波ECR磁控溅射制备SiN<sub><i>x</i></sub>薄膜的XPS结构研究
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物理学报  2009, Vol. 58 Issue (6): 4109-4116
凝聚物质:结构、热学和力学性质 当期目录| 下期目录| 过刊浏览| 高级检索     
微波ECR磁控溅射制备SiNx薄膜的XPS结构研究
丁万昱1, 徐军2, 陆文琪2, 邓新绿2, 董闯2
(1)大连交通大学光电材料与器件研究所,大连 116028;大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 116024; (2)大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 116024
An XPS study on the structure of SiNx film deposited by microwave ECR magnetron sputtering
Ding Wan-Yu1, Xu Jun2, Lu Wen-Qi2, Deng Xin-Lu2, Dong Chuang2
(1)大连交通大学光电材料与器件研究所,大连 116028;大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 116024; (2)大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 116024

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