O<sub>2</sub>流量对磁控溅射N掺杂TiO<sub>2</sub>薄膜成分及晶体结构的影响
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物理学报  2011, Vol. 60 Issue (2): 028105
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O2流量对磁控溅射N掺杂TiO2薄膜成分及晶体结构的影响
丁万昱1, 王华林1, 柴卫平1, 巨东英2
(1)大连交通大学材料科学与工程学院,辽宁省教育厅光电材料与器件工程研究中心,大连 116028; (2)埼玉工业大学材料科学与工程学院,日本 埼玉 369-0293
Composition and crystal structure of N doped TiO2 film deposited with different O2 flow rates
Ju Dong-Ying1, Ding Wan-Yu2, Wang Hua-Lin2, Chai Wei-Ping2
(1)Department of Material Science and Engineering, Saitama Institute of Technology, Fukay 369-0293, Japan; (2)Engineering Research Center of Optoelectronic Materials and Devices of Education Department of Liaoning Province, School of Materials Science and Engineering, Dalian Jiaotong University, Dalian 116028, China

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