H<sub>2</sub> 气对脉冲磁控溅射铝掺杂氧化锌薄膜性能的影响
物理学报
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物理学报  2011, Vol. 60 Issue (6): 067304
凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质 当期目录| 下期目录| 过刊浏览| 高级检索     
H2 气对脉冲磁控溅射铝掺杂氧化锌薄膜性能的影响
李林娜, 陈新亮, 王斐, 孙建, 张德坤, 耿新华, 赵颖
南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室,天津 300071
Effects of hydrogen flux on aluminum doped zinc thin films by pulsed magnetron sputtering
Li Lin-Na, Chen Xin-Liang, Wang Fei, Sun Jian, Zhang De-Kun, Geng Xin-Hua, Zhao Ying
Institute of Photo-electronic Thin Film Devices and Technique of Nankai University, Key Laboratory of Photoelectronics Thin Film Devices and Technique of Tianjin, Key Laboratory of Optoelectronic Information Science and Technology of Ministry of Education

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