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离子注入Si损伤分布的光谱法多层分析

何星飞 莫党

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离子注入Si损伤分布的光谱法多层分析

何星飞, 莫党

MULTILAYER ANALYSIS OF DAMAGE PROFILE IN ION IMPLANTED SILICON BY OPTICAL SPECTROMETRY

HE XING-FEI, MO DANG
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出版历程
  • 收稿日期:  1985-12-11
  • 刊出日期:  1986-06-05

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