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低能离子注入形成氮化硅薄膜特性的研究

陈国明 陈国樑 杨絜 邹世昌

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低能离子注入形成氮化硅薄膜特性的研究

陈国明, 陈国樑, 杨絜, 邹世昌

INVESTIGATION OF THIN FILM Si3N4 FORMED BY LOW ENERGY ION IMPLANTATION

CHEN GUO-MING, CHEN GUO-LIANG, YANG JIE, ZOU SHI-CHANG
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出版历程
  • 收稿日期:  1987-05-18
  • 刊出日期:  2005-07-05

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