利用等离子体辅助脉冲磁控溅射实现多晶硅薄膜的低温沉积
物理学报
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物理学报  2012, Vol. 61 Issue (2): 028104     doi:10.7498/aps.61.028104
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利用等离子体辅助脉冲磁控溅射实现多晶硅薄膜的低温沉积
苏元军1 2, 徐军1, 朱明1 2, 范鹏辉2, 董闯1
1. 大连理工大学三束表面改性教育部重点实验室, 大连 116024;
2. 日新电机-大连理工大学联合研发中心, 大连 116024
Hydrogenated poly-crystalline silicon thin films deposited by inductively coupled plasma assisted pulsed dc twin magnetron sputtering
Su Yuan-Jun1 2, Xu Jun1, Zhu Ming1 2, Fan Peng-Hui2, Dong Chuang1
1. Key Laboratory of Materials Modification by Laser, Ion and Electron Beams, Dalian University of Technology, Ministry of Education, Dalian 116024 China;
2. Nissin Electric-Dalian University of Technology Joint R&D Center, Dalian 116024 China

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