含氢碳膜的生长机制: 分子动力学模拟研究低能量CH基团的作用
物理学报
引用检索 快速检索
物理学报  2012, Vol. 61 Issue (3): 030701     doi:10.7498/aps.61.030701
总论 当期目录| 过刊浏览| 高级检索     
含氢碳膜的生长机制: 分子动力学模拟研究低能量CH基团的作用
宋青1, 吉利2, 权伟龙1, 张磊1, 田苗1, 李红轩2, 陈建敏2
1. 兰州交通大学数理与软件工程学院, 兰州 730070;
2. 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室, 兰州 730000
Growth mechanism of hydrogenated carbon films: molecular dynamics simulations of the effects of low energy CH radical
Song Qing1, Ji Li2, Quan Wei-Long1, Zhang Lei1, Tian Miao1, Li Hong-Xuan2, Chen Jian-Min2
1. School of Mathematics, Physics and Software Engineering, Lanzhou Jiaotong University, Lanzhou 730070, China;
2. State Key Laboratory of Solid Lubrication, Lanzhou Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences, Lanzhou 730000, China

版权所有 ©  物理学报
地址:北京市603信箱,《物理学报》编辑部 邮编:100190
电话:010-82649294,82649829,82649863   E-mail:apsoffice@iphy.ac.cn
网络系统维护电话:010-62662699-1; 技术支持邮箱 linjl@magtech.com.cn