氮离子轰击能量对ta-C:N薄膜结构的影响
物理学报
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物理学报  2012, Vol. 61 Issue (10): 106803     doi:10.7498/aps.61.106803
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氮离子轰击能量对ta-C:N薄膜结构的影响
韩亮1, 邵鸿翔2, 何亮1, 陈仙3, 赵玉清3
1. 西安电子科技大学技术物理学院, 西安 710071;
2. 洛阳理工学院, 洛阳 471023;
3. 西安交通大学电子与信息工程学院, 西安 710049
The effect of nitrogen ion bombarding energy on the bonding structure of nitrogenated tetrahedral amorphous carbon film
Han Liang1, Shao Hong-Xiang2, He Liang1, Chen Xian3, Zhao Yu-Qing3
1. School of Technical Physics, Xidian University, Xi'an 710071, China;
2. Luoyang Institute of Science and Technology, LuoYang 471023, China;
3. School of Electronic and Information Engineering, Xi'an Jiaotong University, Xi'an 710049, China

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