退火氛围对掺杂ZnO薄膜磁性的影响
物理学报
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物理学报  2012, Vol. 61 Issue (13): 137501     doi:10.7498/aps.61.137501
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退火氛围对掺杂ZnO薄膜磁性的影响
李志文1 3, 岂云开1 3, 顾建军1 3, 孙会元2 3
1. 河北民族师范学院物理系, 承德 067000;
2. 河北师范大学物理科学与信息工程学院, 石家庄 050016;
3. 河北省新型薄膜材料重点实验室, 石家庄 050016
Influence of annealing ambience on the magnetic properties of doped ZnO films
Li Zhi-Wen1 3, Qi Yun-Kai1 3, Gu Jian-Jun1 3, Sun Hui-Yuan2 3
1. Department of Physics, Hebei Normal University for Nationalities, Chengde 067000, China;
2. College of Physics Science & Information Engineering, Hebei Normal University, Shijiazhuang 050016, China;
3. Key Laboratory of Advanced Films of Hebei Province, Shijiazhuang 050016, China

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