紫外波段SiO<sub>2</sub>/Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>介质膜分布式布拉格反射镜的制备与研究
物理学报
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物理学报  2012, Vol. 61 Issue (8): 087802     doi:10.7498/aps.61.087802
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紫外波段SiO2/Si3N4介质膜分布式布拉格反射镜的制备与研究
李志成1,刘斌1,张荣1,张曌1,陶涛1,谢自力1,陈鹏1,江若琏1,郑有炓1,姬小利2
1. 南京大学电子科学与工程学院, 固体微结构物理国家重点实验室, 江苏省光电信息功能材料重点实验室, 南京 210093;
2. 中国科学院半导体研究所, 半导体照明研发中心, 北京 100083
Design and fabrication of SiO2/Si3N4 dielectric distributed Bragg reflectors for ultraviolet optoelectronic applications
Li Zhi-Cheng1,Liu Bin1,Zhang Rong1,Zhang Zhao1,Tao Tao1,Xie Zi-Li1,Chen Peng1,Jiang Ruo-Lian1,Zheng You-Dou1,Ji Xiao-Li2
1. National Laboratory of Solid State Microstructures, Key Laboratory of Advanced Photonic and Electronic Materials of Jiangsu Province, School of Electronics Science and Engineering, Nanjing University, Nanjing 210093, China;
2. Semiconductor Lighting Research and Development Center, Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100083, China

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