等离子体浸没离子注入制备黑硅抗反射层及其光学特性研究
物理学报
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物理学报  2012, Vol. 61 Issue (14): 148102     doi:10.7498/aps.61.148102
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等离子体浸没离子注入制备黑硅抗反射层及其光学特性研究
刘杰1 2, 刘邦武2, 夏洋2, 李超波2, 刘肃1
1. 兰州大学物理科学与技术学院, 兰州 730000;
2. 中国科学院微电子器件与集成技术重点实验室, 北京 100029
Study on the optical characteristic of "black silicon" antireflection coating prepared by plasma immersion ion implantation
Liu Jie1 2, Liu Bang-Wu2, Xia Yang2, Li Chao-Bo2, Liu Su1
1. Institute of Microelectronics, School of Physical Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China;
2. Key Laboratory of Microelectronics Devices and Integrated Technology, Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China

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