退火时间对硼掺杂纳米金刚石薄膜微结构和电化学性能的影响
物理学报
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物理学报  2012, Vol. 61 Issue (14): 148101     doi:10.7498/aps.61.148101
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退火时间对硼掺杂纳米金刚石薄膜微结构和电化学性能的影响
胡衡, 胡晓君, 白博文, 陈小虎
浙江工业大学化学工程与材料学院, 杭州 310014
Effects of annealing time on the microstructural and electrochemical properties of B-doped nanocrystalline diamond films
Hu Heng, Hu Xiao-Jun, Bai Bo-Wen, Chen Xiao-Hu
College of Chemical Engineering and Material Science, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014, China

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