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衬底温度对热壁外延ZnSe薄膜质量的影响

吕宏强 王杰 沈军 刘咏 王迅 王昌平 王建宝 李晨 沈孝良

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衬底温度对热壁外延ZnSe薄膜质量的影响

吕宏强, 王杰, 沈军, 刘咏, 王迅, 王昌平, 王建宝, 李晨, 沈孝良

EFFECT OF SUBSTRATE TEMPERATURE ON ZnSe FILMS GROWN BY HOT WALL EPITAXY

Lü HONG-QIANG, WANG JIE, SHEN JUN, LIU YONG, WANG XUN, WANG CHANG-PING, WANG JIAN-BAO, LI CHEN, SHEN XIAO-LIANG
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  • 用热壁外延法在不同衬底温度条件下生长一系列ZnSe薄膜,并通过X射线衍射、喇曼散射以及光致发光技术对ZnSe薄膜质量作了研究。实验结果表明,随着衬底温度下降,ZnSe薄膜质量逐渐变差;当衬底温度低于300℃时,(100)ZnSe薄膜中有(111)孪晶出现;但同时发现衬底温度大于375℃时,衬底Ga原子对ZnSe外延层扩散严重。
    In this paper, we report the results of the growth of a series of ZnSe films on (100) GaAs at different substrate temperatures by hot wall epitaxy. The quality of ZnSe films has been studied by X-ray diffraction, Raman scattering and photoluminescence. The results show that: 1) We have got (100)-oriented single crystal fillms, but the quality becomes worse when lowering the substrate temperature. When the substrate temperature is below 300℃ there appears the (111)-oriented twins in the (100ZnSe. 2) When the substrate temperature is 350℃, Ga atom diffusion from the substrate to the ZnSe epitaxial layer is serious.
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出版历程
  • 收稿日期:  1991-07-08
  • 刊出日期:  1992-04-05

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