热处理对富硅氧化硅薄膜中硅纳米晶形成的影响
物理学报
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物理学报  2012, Vol. 61 Issue (15): 157804     doi:10.7498/aps.61.157804
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热处理对富硅氧化硅薄膜中硅纳米晶形成的影响
蔡雅楠1, 崔灿1, 沈洪磊1, 梁大宇1, 李培刚1, 唐为华1 2
1. 浙江理工大学理学院物理系, 光电材料与器件中心, 杭州 310018;
2. 北京邮电大学理学院, 北京 100876
Effects of thermal treatments on the formation of nanocrystalline Si embedded in Si-rich oxide films
Cai Ya-Nan1, Cui Can1, Shen Hong-Lei1, Liang Da-Yu1, Li Pei-Gang1, Tang Wei-Hua1 2
1. Center for Optoelectronics Materials and Devices, Department of Physics, Zhejiang Sci-Tech University, Hangzhou 310018, China;
2. School of Science, Beijing University Posts and Telecommunications, Beijing 100876, China

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