高<em>k</em>介质在新型半导体器件中的应用
物理学报
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物理学报  2012, Vol. 61 Issue (13): 137701     doi:10.7498/aps.61.137701
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k介质在新型半导体器件中的应用
黄力1, 黄安平2, 郑晓虎2, 肖志松2, 王 玫2
1. 北京航空航天大学电子信息工程学院, 北京 100191;
2. 北京航空航天大学物理科学与核能工程学院, 北京 100191
Application of high-k dielectrics in novel semiconductor devices
Huang Li1, Huang An-Ping2, Zheng Xiao-Hu2, Xiao Zhi-Song2, Wang Mei2
1. Department of Electronic and Information Engineering, Beihang University, Beijing 100191, China;
2. Department of Physics, Beihang University, Beijing 100191, China

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