纳秒紫外重复脉冲激光烧蚀单晶硅的热力学过程研究
物理学报
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物理学报  2012, Vol. 61 Issue (19): 197901     doi:10.7498/aps.61.197901
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纳秒紫外重复脉冲激光烧蚀单晶硅的热力学过程研究
包凌东1, 韩敬华1, 段涛2, 孙年春1, 高翔1, 冯国英1, 杨李茗3, 牛瑞华4, 刘全喜4
1. 四川大学电子信息学院, 成都 610064;
2. 西南科技大学极端条件物质特性实验室, 绵阳 621010;
3. 成都精密光学工程研究中心,成都 610041;
4. 西南技术物理研究所,成都 610041
Investigation of thermodynamic progress of silicon ablated by nanosecond uv repetitive pulse laser
Bao Ling-Dong1, Han Jing-Hua1, Duan Tao2, Sun Nian-Chun1, Gao Xiang1, Feng Guo-Ying1, Yang Li-Ming3, Niu Rui-Hua4, Liu Quan-Xi4
1. College of Electronics & Information Engineering, Sichuan University, Chengdu 610064, China;
2. Laboratory for Extreme Conditions Matter Properties, Southwest University of Science and Technology, Mianyang 621010, China;
3. Chengdu Fine Optical Engineering Research Center, Chengdu 610041, China;
4. Southwest Institute of Technical Physics, Chengdu 610041, China

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