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Ni在非晶Si中扩散机制的原位X射线衍射研究

汪卫华 白海洋 陈红 张云 王文魁

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Ni在非晶Si中扩散机制的原位X射线衍射研究

汪卫华, 白海洋, 陈红, 张云, 王文魁

STUDY THE DIFFUSION MECHANISM OF Ni IN AMORPHOUS Si BY X-RAY DIFFRACTION

WANG WEI-HUA, BAI HAI-YANG, ZHANG YUN, CHEN HONG, WANG WEN-KUI
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  • 通过对非晶Ni和Si多层组分调制膜(ML)中Ni和Si互扩散规律的原位X射线衍射法研究,考察了金属Ni在非晶Si(a-Si)中的扩散现象。得到了较低温度下Ni在非晶Si中扩散系数及规律,并且提出了Ni在a-Si中受非平衡缺陷延迟的间隙扩散机制。这个扩散模型较好地解释了Ni在a-Si中的扩散。
    he diffusion mechanism of the Ni in amorphous Si was studied by in situ X-ray diffraction technique in amorphous Ni/Si multilayer. The temperature dependent diffusivity of Ni in amorphous Si was obtained in the form of Arrheneius relationship. A trap-retarded interstitial diffusion mechanism is suggested to explain the diffusion process of Ni in amorphous Si.
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出版历程
  • 收稿日期:  1992-11-05
  • 刊出日期:  2005-07-10

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