等离子体活化硒对电沉积Cu-In-Ga金属预制层硒化的影响
物理学报
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物理学报  2013, Vol. 62 Issue (7): 078801     doi:10.7498/aps.62.078801
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等离子体活化硒对电沉积Cu-In-Ga金属预制层硒化的影响
张超, 敖建平, 姜韬, 孙国忠, 周志强, 孙云
南开大学光电子薄膜器件与技术研究所, 天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室, 光电信息技术科学教育部重点实验室, 天津 300071
Influences of plasma activation Se source on selenization of electrodeposited Cu-In-Ga metallic precursors
Zhang Chao, Ao Jian-Ping, Jiang Tao, Sun Guo-Zhong, Zhou Zhi-Qiang, Sun Yun
Tianjin Key Laboratory of Photo-Electronic Thin FilmDevices and Technology, Institute of Photo-Electronic Thin FilmDevices and Technique, Nankai University, Key Laboratory of Optoelectronic Information Technology, Ministry of Education (Nankai University Tianjin University), Tianjin 300071, China

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