H<sup>+</sup>和Ar<sup>11+</sup>激发Si的<em>K</em>壳层X射线发射研究
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物理学报  2013, Vol. 62 Issue (8): 083201     doi:10.7498/aps.62.083201
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H+和Ar11+激发Si的K壳层X射线发射研究
周贤明1, 赵永涛1, 程锐1, 王兴1, 雷瑜1, 孙渊博1, 王瑜玉1, 徐戈1, 任洁茹1, 张小安2, 梁昌慧2, 李耀宗2, 梅策香2, 肖国青1
1. 中国科学院近代物理研究所, 兰州 730000;
2. 咸阳师范学院物理与电子工程学院, 咸阳 712000
Study of Si K-shell X-ray emission induced by H+ and Ar11+ ions
Zhou Xian-Ming1, Zhao Yong-Tao1, Cheng Rui1, Wang Xing1, Lei Yu1, Sun Yuan-Bo1, Wang Yu-Yu1, Xu Ge1, Ren Jie-Ru1, Zhang Xiao-An2, Liang Chang-Hui2, Li Yao-Zong2, Mei Ce-Xiang2, Xiao Guo-Qing1
1. Institute of Modern Physics, Chinese Academy of Sciences, Lanzhou 730000, China;
2. School of Physics and Electronic Engineering, Normal College of Xianyang, Xianyang 712000, China

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