等离子增强原子层沉积低温生长AlN薄膜
物理学报
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物理学报  2013, Vol. 62 Issue (11): 117302     doi:10.7498/aps.62.117302
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等离子增强原子层沉积低温生长AlN薄膜
冯嘉恒1 2, 唐立丹1, 刘邦武2, 夏洋2, 王冰1
1. 辽宁工业大学, 材料科学与工程, 锦州 121001;
2. 中国科学院微电子器件与集成技术重点实验室, 北京 100029
Low-temperature growth of AlN thin films by plasma-enhanced atomic layer deposition
Feng Jia-Heng1 2, Tang Li-Dan1, Liu Bang-Wu2, Xia Yang2, Wang Bing1
1. Liaoning University of Technology , Jinzhou 121001, China;
2. Key Laboratory of Microelectronics Devices and Integrated Technology, Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China

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