低温下二硫化钼电子迁移率研究
物理学报
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物理学报  2013, Vol. 62 Issue (20): 206101     doi:10.7498/aps.62.206101
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低温下二硫化钼电子迁移率研究
董海明
中国矿业大学理学院物理系, 徐州 221116
Investigation on mobility of single-layer MoS2 at low temperature
Dong Hai-Ming
Department of Physics, China University of Mining and Technology, Xuzhou 221116, China

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