纳米压印多孔硅模板的研究
物理学报
引用检索 快速检索
物理学报  2014, Vol. 63 Issue (1): 018102     doi:10.7498/aps.63.018102
物理学交叉学科及有关科学技术领域 当期目录| 过刊浏览| 高级检索     
纳米压印多孔硅模板的研究
张铮1, 徐智谋1, 孙堂友1, 徐海峰1, 陈存华2, 彭静3
1. 华中科技大学光学与电子信息学院, 武汉 430074;
2. 中师范大学化学学院, 武汉 430079;
3. 武汉科技大学理学院, 武汉 430081
Study on porous silicon template for nanoimprint lithography
Zhang Zheng1, Xu Zhi-Mou1, Sun Tang-You1, Xu Hai-Feng1, Chen Cun-Hua2, Peng Jing3
1. School of Optical and Electronic Information, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China;
2. College of Chemistry, Central China Normal University, Wuhan 430079, China;
3. College of Science, Wuhan University of Science and Technology, Wuhan 430081, China

版权所有 ©  物理学报
地址:北京市603信箱,《物理学报》编辑部 邮编:100190
电话:010-82649294,82649829,82649863   E-mail:apsoffice@iphy.ac.cn
网络系统维护电话:010-62662699-1; 技术支持邮箱 linjl@magtech.com.cn