铒离子注入绝缘体上Si的射程分布研究
物理学报
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物理学报  2014, Vol. 63 Issue (17): 176101     doi:10.7498/aps.63.176101
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铒离子注入绝缘体上Si的射程分布研究
秦希峰, 马桂杰, 时术华, 王凤翔, 付刚, 赵金花
山东建筑大学理学院, 济南 250101
Investigation on range distribution of Er ions implanted in silicon-on-insulator
Qin Xi-Feng, Ma Gui-Jie, Shi Shu-Hua, Wang Feng-Xiang, Fu Gang, Zhao Jin-Hua
College of Science, Shandong Jianzhu University, Jinan 250101, China

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