掺铒硅多孔化后的光致发光特性

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掺铒硅多孔化后的光致发光特性

顾岚岚 , 熊祖洪 , 陈刚 , 徐少辉

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研究快讯

掺铒硅多孔化后的光致发光特性

顾岚岚, 熊祖洪, 陈刚, 徐少辉

物理学报, 2000, 49(2): 383-388.

doi: 10.7498/aps.49.383

Acta Phys. Sin., 2000, 49(2): 383-388.

doi: 10.7498/aps.49.383

摘要

采用一种新的方法制备掺Er多孔硅.首先通过分子束外延法生长Er,O共掺的硅外延层,然后通过常规的电化学阳极腐蚀法将外延层制备成掺Er离子的纳米硅柱结构.由于实现了Er离子在多孔硅中沿深度方向的均匀分布,得到峰宽仅6nm的Er3+本征发光.同时,由于铒与氧共掺于硅柱内部,多孔硅不再需要通过高温后处理引入氧来实现铒的光学激活.实验还对多孔化前后,Er3+的发光强度作出直观的比较,讨论多孔硅可见光及红外光区域的发光对Er3+红外发射的影响.
Abstract
作者及机构信息
顾岚岚,

熊祖洪,

陈刚,

徐少辉

1.
复旦大学应用表面物理国家重点实验室,上海200433

基金项目: 国家自然科学基金!重点项目 (批准号 :5 983 2 10 0 )资助的课题
Authors and contacts
1.
复旦大学应用表面物理国家重点实验室,上海200433
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第49卷，第2期 - 2000年01月20日

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