脉冲直流偏压增强的高质量立方氮化硼薄膜的合成
物理学报
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物理学报  2001, Vol. 50 Issue (11): 2258-2262
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脉冲直流偏压增强的高质量立方氮化硼薄膜的合成
田晶泽1, 吕反修1, 夏立芳2
(1)北京科技大学材料科学与工程学院,北京100083; (2)哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,哈尔滨150001
DEPOSITION OF HIGH-QUALITY c-BN FILM ENHANCED BY PULSED DC BIAS TECHNIQUE
TIAN JING-ZE1, Lü FAN-XIU1, XIA LI-FANG2
(1)北京科技大学材料科学与工程学院,北京100083; (2)哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,哈尔滨150001

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