用SiCl4-H2低温沉积多晶硅薄膜微结构的Raman分析

林璇英; 黄创君; 林揆训; 余运鹏; 余楚迎; 黄　锐

doi:10.7498/aps.53.1558

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用SiCl4-H2低温沉积多晶硅薄膜微结构的Raman分析

林璇英 , 黄创君 , 林揆训 , 余运鹏 , 余楚迎 , 黄　锐

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用SiCl4-H2低温沉积多晶硅薄膜微结构的Raman分析

林璇英, 黄创君, 林揆训, 余运鹏, 余楚迎, 黄　锐

物理学报, 2004, 53(5): 1558-1561.

doi: 10.7498/aps.53.1558

Raman analysis of microstructure of polycrystalline silicon films deposited at low-temperatures from SiCl4-H2

Lin Xuan-Ying, Huang Chuang-Jun, Lin Kui-Xun, Yu Yun-Peng, Yu Chu-Ying, Huang Rui

Acta Phys. Sin., 2004, 53(5): 1558-1561.

doi: 10.7498/aps.53.1558

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林璇英,

黄创君,

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余运鹏,

余楚迎,

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Yu Chu-Ying,

Huang Rui
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