物理学报
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2006, Vol. 55(11): 6163-6167    DOI: 10.7498/aps.55.6163
同步辐射光激励的二氧化硅薄膜刻蚀研究
Urisu Tsuneo1, 王长顺2, 潘 煦2
(1)Institute for Molecular Science,Okazaki,444-8585,Japan; (2)上海交通大学物理系,上海 200240
收稿日期 2006-03-28  修回日期 2006-04-10
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