物理学报
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2001, Vol. 50(9): 1769-1773    DOI: 10.7498/aps.50.1769
应力导致的薄栅氧化层漏电流瞬态特性研究
刘红侠, 郝跃
西安电子科技大学微电子研究所,西安710071
收稿日期 2001-03-27  修回日期 2001-04-29
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