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在发射式电子光学系统中,光电子速度分布对像品质的影响(Ⅱ)

吴全德

在发射式电子光学系统中,光电子速度分布对像品质的影响(Ⅱ)

吴全德
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出版历程
  • 收稿日期:  1956-10-18
  • 刊出日期:  1957-01-20

在发射式电子光学系统中,光电子速度分布对像品质的影响(Ⅱ)

  • 1. 北京大学

摘要: 本文是在上一篇论文的基础上,进一步讨论了更接近实际情况的面源,在只有中心像差存在时,在极限像平面附近的像平面上的强度分布及分辨距离等问题。针对不同的光电子初能量分布,并且假定角度分布仍满足Lambert定律,可以找到电子像最清晰的像平面位置及其分辨直径、分辨宽度。这些分辨距离没有统一的标准值,它们与电子的初能量分布、发射面源的几何形状、以及像平面的位置等有关。在具体计算之后,我们发现分辨直径、分辨宽度等理论极限值比Арцимович院士不考虑强度分布所得到的分辨距离要小一个数量级。本文中关於最小分辨距离的计算结果可以作为装置和改进发射式电子光学系统的依据。

English Abstract

参考文献 (1)

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