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用X射线能谱同时测定薄膜成分及厚度

程万荣 高巧君 吴自勤

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用X射线能谱同时测定薄膜成分及厚度

程万荣, 高巧君, 吴自勤

SIMULTANEOUS MEASUREMENT OF THE CONSTITUENT AND THICKNESS OF THIN FILM BY X-RAY EDS

CHENG WAN-BONG, GAO QIAO-JUN, WU ZI-QIN
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  • 本文提出一个直接利用薄膜和衬底的X射线能谱来同时测定薄膜的成分和厚度的新方法,利用薄膜发出的各元素的标识X射线强度比确定其成分,利用NaCl衬底的Nakα和Clkα标识X射线的强度随膜厚增大而衰减的定量关系确定膜厚,本方法不需要纯元素的块状标样,对在NaCl衬底上沉积的Cu-Si合金薄膜的成分和厚度,在各种实验条件下进行了测定,得到了较为满意的结果。
    A new method which can simultaneously determine the constituent and thickness of the alloy films using the X-ray EDS has been developed. The constituent is determined by the ratios of the kα intensties of elements in the film. The thickness of the film deposited on a NaCl substrate is measured by the attenuation of the ratios of Na kα intensity/Cl kα intensity. It is not necessary to use bulk standards of pure elements. This method has been applied to Cu-Si alloy films of different thickness deposited on NaCl substrate. Under various experimental conditions, the constituent and thickness data are determined satisfactorily.
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出版历程
  • 收稿日期:  1980-07-31
  • 刊出日期:  2005-07-27

用X射线能谱同时测定薄膜成分及厚度

  • 1. 北京大学物理系

摘要: 本文提出一个直接利用薄膜和衬底的X射线能谱来同时测定薄膜的成分和厚度的新方法,利用薄膜发出的各元素的标识X射线强度比确定其成分,利用NaCl衬底的Nakα和Clkα标识X射线的强度随膜厚增大而衰减的定量关系确定膜厚,本方法不需要纯元素的块状标样,对在NaCl衬底上沉积的Cu-Si合金薄膜的成分和厚度,在各种实验条件下进行了测定,得到了较为满意的结果。

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