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无金和掺金Si-SiO2界面的氧退火特性

李思渊 张同军 王毓珍 李寿嵩 殷之平

无金和掺金Si-SiO2界面的氧退火特性

李思渊, 张同军, 王毓珍, 李寿嵩, 殷之平
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出版历程
  • 收稿日期:  1984-05-08
  • 刊出日期:  2005-03-31

无金和掺金Si-SiO2界面的氧退火特性

  • 1. 兰州大学物理系

摘要: 本文从实验上研究了氧退火后无金和掺金两类Si-SiO2界面表面电荷、界面态以及禁带中态密度分布的热处理变化。考察了金的界面效应的退火行为。还给出了不同温度下干氧氧化所形成的Si-SiO2界面(包括无金和掺金的)和相同温度下氧退火界面在电性能上的对比结果。

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