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外延YIG膜中激发磁模的精细结构

洪涛 张鹏翔 曹克定

外延YIG膜中激发磁模的精细结构

洪涛, 张鹏翔, 曹克定
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出版历程
  • 收稿日期:  1984-11-02
  • 刊出日期:  2005-07-14

外延YIG膜中激发磁模的精细结构

  • 1. (1)中国科学技术大学物理系,84年毕业生; (2)中国科学院物理研究所

摘要: 用激发磁波的方式在面内磁化的外延YIG膜上得到了一组等间距、慢衰减的磁模。考虑到磁化强度在模内不均匀性及进动为椭圆进动,导出了模式间距和磁性参数间的关系。和实验比较可以推算出表征不均匀的参数。对于我们的样品,该不均匀性约为2.6—5.8%。

English Abstract

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