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Bi置换DyIG溅射薄膜的磁光性能与干涉效应的研究

沈德芳 杜腾达 王丽娟 张伟珠

Bi置换DyIG溅射薄膜的磁光性能与干涉效应的研究

沈德芳, 杜腾达, 王丽娟, 张伟珠
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出版历程
  • 收稿日期:  1990-05-30
  • 刊出日期:  2005-07-01

Bi置换DyIG溅射薄膜的磁光性能与干涉效应的研究

  • 1. 中国科学院上海冶金研究所,上海,200050

摘要: 本文报道用高频溅射法在玻璃衬底上制备的Bi置换DylG薄膜具有高的矫顽力和矩形比。在500nm波长附近,法拉第旋转角达7.5°/μm。经热磁记录的磁畴稳定。并发现薄膜表面蒸镀不同金属时,随不同波长和磁光层厚度干涉效应有较大差异。利用此特性可对石榴石记录盘片进行最佳性能设计。

English Abstract

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