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非晶调制多层膜Nb/Si中的互扩散研究

张明 于文 张君 张远仪 王文魁

非晶调制多层膜Nb/Si中的互扩散研究

张明, 于文, 张君, 张远仪, 王文魁
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  • 利用原位X射线衍射技术得到非晶调制多层膜Nb/Si中的互扩散系数与退火温度的关系,调制周期L=3.2nm的非晶调制多层膜是用粒子溅射方法制备的.温度范围为423—523K的有效互扩散系数通过原位测量多层膜的一级调制峰强度与退火温度之间的关系而得到.利用缺陷陷阱延迟扩散机制解释了所得到的扩散系数与退火温度的关系.建立了可以解释较小前置系数的模型
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出版历程
  • 收稿日期:  1995-08-09
  • 刊出日期:  1996-05-05

非晶调制多层膜Nb/Si中的互扩散研究

  • 1. (1)中国科学院物理研究所; (2)中国科学院物理研究所;中国科学院国际材料物理中心

摘要: 利用原位X射线衍射技术得到非晶调制多层膜Nb/Si中的互扩散系数与退火温度的关系,调制周期L=3.2nm的非晶调制多层膜是用粒子溅射方法制备的.温度范围为423—523K的有效互扩散系数通过原位测量多层膜的一级调制峰强度与退火温度之间的关系而得到.利用缺陷陷阱延迟扩散机制解释了所得到的扩散系数与退火温度的关系.建立了可以解释较小前置系数的模型

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