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多弧离子镀工艺对TiN/Ti与Cr/Cu界面及微结构的影响

林秀华 刘 新

多弧离子镀工艺对TiN/Ti与Cr/Cu界面及微结构的影响

林秀华, 刘 新
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  • 用多弧离子镀技术在铜基上电镀Cr/Ni层进行不同工艺条件下多弧离子沉积TiN/Ti实验.借助X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了TiN/Ti与Cr/Cu接触界面形成、微结构及其组分与形貌.XRD分析显示,薄膜表面组分包含TiN,Ti2N多晶相外,还包含一些Cr-Ti的金属间化合物等.显然,TiN,Ti2N在表面上已形成.SEM观察指出,在90℃制备的表面膜具有不平整的类枝状结晶结构.随着温度升高至170℃,得到精细TiN/Ti覆盖层表面,XRD峰
    • 基金项目: 福建省自然科学基金(批准号:F99031)及厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2000-05-11
  • 刊出日期:  2000-11-20

多弧离子镀工艺对TiN/Ti与Cr/Cu界面及微结构的影响

  • 1. 厦门大学物理系,化学系固体表面物理化学国家重点实验室,厦门 361005
    基金项目: 

    福建省自然科学基金(批准号:F99031)及厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室资助的课题.

摘要: 用多弧离子镀技术在铜基上电镀Cr/Ni层进行不同工艺条件下多弧离子沉积TiN/Ti实验.借助X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了TiN/Ti与Cr/Cu接触界面形成、微结构及其组分与形貌.XRD分析显示,薄膜表面组分包含TiN,Ti2N多晶相外,还包含一些Cr-Ti的金属间化合物等.显然,TiN,Ti2N在表面上已形成.SEM观察指出,在90℃制备的表面膜具有不平整的类枝状结晶结构.随着温度升高至170℃,得到精细TiN/Ti覆盖层表面,XRD峰

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