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氟化非晶碳薄膜的光学带隙分析

王响英 叶超 宁兆元 程珊华

氟化非晶碳薄膜的光学带隙分析

王响英, 叶超, 宁兆元, 程珊华
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出版历程
  • 收稿日期:  2002-03-13
  • 修回日期:  2002-05-01
  • 刊出日期:  2005-06-21

氟化非晶碳薄膜的光学带隙分析

  • 1. (1)苏州大学基础医学系,苏州21500; (2)苏州大学物理系,苏州215006
    基金项目: 

    江苏省高等学校省级重点实验室开放课题 (批准号 :KJS0 10 12 )

    国家自然科学基金 (批准号 :10 175 0 48)资助的课题

摘要: 研究了CHF3C6H6沉积的氟化非晶碳(αC∶F)薄膜的光学带隙.发现αC∶F薄膜光学带隙的大小取决于薄膜中C—F,CC的相对含量.这是由于CC形成的窄带隙π键和C—F形成的宽带隙σ键含量的相对变化,改变了带边态密度分布的结果.在微波功率为140—700W、沉积气压为01—10Pa、源气体CHF3∶C6H6流量比为1∶1—10∶1条件下沉积的αC∶F薄膜,光学带隙在176—398eV之间

English Abstract

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