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非晶Ni-Cu-P合金化学沉积过程的多重分形谱研究

物理学报, 2002, 51(5): 999-1003.
DOI: 10.7498/aps.51.999
CSTR: 32037.14.aps.51.999

Acta Phys. Sin., 2002, 51(5): 999-1003.
DOI: 10.7498/aps.51.999
CSTR: 32037.14.aps.51.999
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  • 摘要

    用原子力显微镜测定了SiTiNPd基体,经不同沉积时间得到的非晶Ni13.1wt%Cu9.3wt%P薄膜的表面形貌,得到了AFM图像的多重分形谱.结果表明:随着沉积时间的增加,多重分形谱的宽度增加,Δf(Δf=f(αmin)-f(αmax))增大.说明沉积表面高度分布随着沉积时间的增加,不均匀性显著增加,镀层在水平和垂直方向生长并逐渐形成连续致密的镀层.这与对AFM图的观察是一致的

     

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