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CVD金刚石膜的结构分析

刘存业 刘 畅

CVD金刚石膜的结构分析

刘存业, 刘 畅
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  • 利用x射线广角衍射和低角掠入射散射谱、正电子湮没谱、定性分析软件和Positronfit程序,研究了生长在Si(100)基底上的金刚石膜微结构.研究发现,在样品邻近基底区域为纳米 多晶结构,具有弱的[111]织构;在邻近表面区域为微米多晶结构,具有强的[220]织构 .金刚石膜样品有空位、空位团和空洞3种缺陷,其中主要缺陷是大约10个空位形成的空位团 .
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出版历程
  • 收稿日期:  2002-09-10
  • 修回日期:  2002-10-19
  • 刊出日期:  2003-03-05

CVD金刚石膜的结构分析

  • 1. (1)拉特格斯大学物理与天文学系,美国新泽西 08854; (2)西南师范大学物理学系,重庆 400715

摘要: 利用x射线广角衍射和低角掠入射散射谱、正电子湮没谱、定性分析软件和Positronfit程序,研究了生长在Si(100)基底上的金刚石膜微结构.研究发现,在样品邻近基底区域为纳米 多晶结构,具有弱的[111]织构;在邻近表面区域为微米多晶结构,具有强的[220]织构 .金刚石膜样品有空位、空位团和空洞3种缺陷,其中主要缺陷是大约10个空位形成的空位团 .

English Abstract

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