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螺旋波等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜

于 威 刘丽辉 侯海虹 丁学成 韩 理 傅广生

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螺旋波等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜

于 威, 刘丽辉, 侯海虹, 丁学成, 韩 理, 傅广生

Silicon nitride films prepared by helicon wave plasam-enhanced chemical vapour deposition

Yu Wei, Liu Li-Hui, Hou Hai-Hong, Ding Xue-Cheng, Han Li, Fu Guang-Sheng
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出版历程
  • 收稿日期:  2002-07-23
  • 修回日期:  2002-09-18
  • 刊出日期:  2005-04-03

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