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溅射功率对Fe-Si-B-Nb-Cu薄膜微结构与磁性的影响

石旺舟 马学鸣 杨燮龙 梁锐生

溅射功率对Fe-Si-B-Nb-Cu薄膜微结构与磁性的影响

石旺舟, 马学鸣, 杨燮龙, 梁锐生
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出版历程
  • 收稿日期:  2003-10-26
  • 修回日期:  2004-02-24
  • 刊出日期:  2004-05-05

溅射功率对Fe-Si-B-Nb-Cu薄膜微结构与磁性的影响

  • 1. (1)华东师范大学物理系,上海\ 200062; (2)华东师范大学物理系,上海\ 200062;汕头大学物理系,汕头\ 515063
    基金项目: 

    上海市科委纳米专项资助的课题

摘要: 通过射频磁控溅射法制备了Fe_Si_B_Nb_Cu薄膜,采用x射线衍射与Mssb auer谱相结合分析了薄膜的微结构形态,研究了不同溅射功率对薄膜微结构的影响.其结果 表明:在较低溅射功率密度下,薄膜为无定型结构;随着溅射功率密度升高,沉积薄膜无需 热处理,便呈现出晶态和非晶态的混合相结构,晶态为纳米级的α_Fe(Si)和α_Fe(B)固溶 体;α_Fe(Si)相和α_Fe(B)相的体积分数、微结构组态、磁矩取向及宏观磁性能均随着溅 射功率的变化而变化.

English Abstract

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