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射频功率对类金刚石薄膜结构和性能的影响

李红轩 徐 洮 陈建敏 周惠娣 刘惠文

射频功率对类金刚石薄膜结构和性能的影响

李红轩, 徐 洮, 陈建敏, 周惠娣, 刘惠文
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出版历程
  • 收稿日期:  2004-06-08
  • 修回日期:  2004-07-23
  • 刊出日期:  2005-04-19

射频功率对类金刚石薄膜结构和性能的影响

  • 1. 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室,兰州 730000
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:59925513, 50323007)、国家高技术研究发展计划(批准号 :2003AA305670)和中国科学院“百人计划”资助的课题.

摘要: 利用直流-射频-等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅表面制备了类金刚石薄膜,采用原子力显微镜、Raman光谱、x射线光电子能谱、红外光谱和纳米压痕仪考察了射频功率对类金刚石薄膜表面形貌、微观结构、硬度和弹性模量的影响.结果表明,制备的薄膜具有典型的含H类金刚石结构特征,薄膜致密均匀,表面粗糙度很小.随着射频功率的升高,薄膜中成键H的含量逐渐降低,而薄膜的sp33含量、硬度以及弹性模量先升高, 后降低,并在射频功率为100W时达到最大.

English Abstract

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