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类金刚石和碳氮薄膜的电化学沉积及其场发射性能研究

叶 凡 谢二庆 李瑞山 林洪峰 张 军 贺德衍

类金刚石和碳氮薄膜的电化学沉积及其场发射性能研究

叶 凡, 谢二庆, 李瑞山, 林洪峰, 张 军, 贺德衍
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出版历程
  • 收稿日期:  2004-09-20
  • 修回日期:  2005-01-21
  • 刊出日期:  2005-04-05

类金刚石和碳氮薄膜的电化学沉积及其场发射性能研究

  • 1. 兰州大学物理科学与技术学院,兰州 730000

摘要: 利用电化学方法在室温下成功地沉积了类金刚石(DLC)薄膜和非晶CNx薄膜,并 对制备条件进行了讨论.通过扫描电子显微镜、傅里叶变换红外光谱技术,分析了薄膜的表面形貌和化学结合状态.场发射测量结果表明:DLC膜和非晶CNx的开启场分别为88和 10V/μm;并且在23V/μm的电场下,DLC膜和非晶CNx膜的发射电流密度分别达到10 和037mA/cm2.

English Abstract

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