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人工裁剪制备石墨纳米结构

王 胜 彭练矛 姜 博 郑泉水 刘首鹏 周 锋 金爱子 杨海方 马拥军 李 辉 顾长志 吕 力

人工裁剪制备石墨纳米结构

王 胜, 彭练矛, 姜 博, 郑泉水, 刘首鹏, 周 锋, 金爱子, 杨海方, 马拥军, 李 辉, 顾长志, 吕 力
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-04-13
  • 修回日期:  2005-05-08
  • 刊出日期:  2005-09-20

人工裁剪制备石墨纳米结构

  • 1. (1)北京大学电子学系,北京 100871; (2)清华大学力学工程系,北京 100084; (3)中国科学院物理研究所,北京 100080

摘要: 采用不同的方法裁剪高定向热解石墨(HOPG),制备纳米尺寸的石墨条.首先,发现用聚焦离子束(镓离子)刻蚀高定向热解石墨,可以得到边缘整齐程度在几十纳米的石墨条,另外,用 电子束曝光和反应离子刻蚀的工艺,可以得到最小尺寸为50 nm的纳米石墨图型 (nano-size d graphite pattern,纳米尺寸的多层石墨结构).采用了三种不同的方案制备反应等离子刻 蚀过程中需要的掩膜,分别是PECVD生长的SiO2掩膜,磁控溅射的方法生长的Si O2掩膜和PMMA光刻胶掩膜,并将三种方案的刻蚀结果做了对比.

English Abstract

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