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退火温度对Er/Yb共掺Al2O3薄膜的光致荧光光谱的影响

谭 娜 段淑卿 张庆瑜

退火温度对Er/Yb共掺Al2O3薄膜的光致荧光光谱的影响

谭 娜, 段淑卿, 张庆瑜
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出版历程
  • 收稿日期:  2004-12-21
  • 修回日期:  2005-01-21
  • 刊出日期:  2005-09-20

退火温度对Er/Yb共掺Al2O3薄膜的光致荧光光谱的影响

  • 1. 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室, 大连 116024
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:50240420656)资助的课题.

摘要: 通过对不同退火条件下Er/Yb共掺Al2O3薄膜光致荧光(PL)光谱的 系统分析,研究了高Er/Yb掺杂浓度所导致的晶体场变化对薄膜PL光谱的影响,并结合薄膜结构分析,探讨了Al2O3薄膜的结晶状态在Er3+激活、PL光谱宽化 中的作用及可能的物理机理.研 究结果表明:退火处理所导致的Er3+ PL光谱的变化与薄膜的微观状态之 间有着密 切的联系.在600—750℃范围内,薄膜呈非晶态结构,薄膜荧光强度的增加主要是薄膜内缺 陷减少所致;在800—900℃范围内,γ-Al2O3相的出现是导致荧 光强度明显增加的主 要原因;当退火温度为1000℃时,Er,Yb的大量析出致使荧光强度的急剧下降.此外,对PL 光谱线形分析表明,各子能级跃迁的相对强度变化是导致荧光光谱宽化的主要因素.

English Abstract

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